플라즈마처리의 원리

플라즈마 장치는 고온, 고밀도 플라즈마를 생성하고 제어하는 장치로, 플라즈마의 물리적 특성을 연구하거나 산업용으로 활용됩니다.

플라즈마는 기체 상태에서 일부 원자나 분자가 전자를 잃고 이온화된 상태로 변한 상태를 말합니다. 이러한 이온화된 입자들은 전하를 가지며, 전기장과 자기장에 반응하는 등 다양한 물리적 특성을 가지고 있습니다.

플라즈마 장치는 이러한 플라즈마를 생성하고 조작하는데 사용됩니다. 예를 들어, 플라즈마 장치를 사용하여 산업용 측면에서는 물질을 가열하거나 화학 반응을 촉진하는 등의 용도로 활용됩니다. 또한, 태양 및 별 내부의 플라즈마 연구, 핵융합 발전 연구, 플라즈마 광학 및 레이저 등 다양한 분야에서 활용됩니다.